高密度MRAM具有非常低的功率,高的讀取速度,非常高的數據保留能力和耐久性,適用於廣泛的應用。單元面積僅為0.0456平方微米,讀取速度為10ns,讀取功率為0.8mA/MHz/b,在低功耗待機模式(LPSB)下,其在25C時的泄漏電流小於55mA,相當於每比特的漏電流僅為1.7E-12A。對於32 ...
高密度MRAM具有非常低的功率,高的讀取速度,非常高的數據保留能力和耐久性,適用於廣泛的應用。單元面積僅為0.0456平方微米,讀取速度為10ns,讀取功率為0.8mA/MHz/b,在低功耗待機模式(LPSB)下,其在25C時的泄漏電流小於55mA,相當於每比特的漏電流僅為1.7E-12A。對於32Mb數據,它具有100K個迴圈的耐久性,而對於1Mb的數據可以>1M個迴圈。它在260°C的IR迴流下具有90秒的數據保留能力,在150°C的條件下可保存數據10年以上。
MRAM讀取操作
為了從LPSM快速,低能耗喚醒以實現高速讀取訪問,它採用了細粒度的電源門控電路(每128行一個),分兩步進行喚醒(如圖1所示)。電源開關由兩個開關組成,一個開關用於晶元電源VDD,另一個開關用於從低壓差(LDO,LowDrop-Out)穩壓器提供VREG的穩定電壓。首先打開VDD開關以對WL驅動器的電源線進行預充電,然後打開VREG開關以將電平提升至目標電平,從而實現<100ns的快速喚醒,同時將來自VREGLDO的瞬態電流降至最低。
圖1.具有兩步喚醒功能的細粒度電源門控電路(每128行一個)。
MRAM寫入操作
低阻態Rp和高阻態Rap的MRAM寫入操作需要如圖2所示的雙向寫入操作。要將Rap狀態寫到Rp需要將BL偏置到VPP,WL到VREG_W0,SL到0以寫入0狀態。要寫入1狀態,將Rap變成Rp需要反方向的電流,其中BL為0,SL為VPP,WL為VREG_W1。
圖2.平行低電阻狀態Rp和高電阻反平行狀態Rap的雙向寫入
為了在260°C的IR迴流焊中達到90秒的保留數據時長,需要具有高能壘Eb的MTJ。這就需要將MTJ開關電流增加到可靠寫入所需的數百mA。寫入電壓經過溫度補償,電荷泵為選定的單元產生一個正電壓,為未選定的字線產生一個負電壓,以抑制高溫下的位線漏電。寫電壓系統如圖3所示。
圖3顯示了電荷泵對WL和BL/SL的過驅動以及溫度補償的寫偏置
在較寬的溫度範圍內工作時,需要對寫入電壓進行溫度補償。圖4顯示了從-40度到125度的寫入電壓shmoo圖,其中F/P表示在-40度時失敗,而在125度時通過。
圖4.顯示寫入期間溫度補償的要求。
具有標準JTAG介面的BIST模塊可實現自修複和自調節,以簡化測試流程。實現圖5中所示的雙糾錯ECC(DECECC)的存儲控制器TMC。
圖5.BIST和控制器,用於在測試和實施DECECC期間進行自修複和自調節。
TMC實施了智能寫操作演算法,該演算法實現了偏置設置和驗證/重試時間,以實現較高的寫入耐久性(>1M迴圈)。它包含寫前讀(用於確定需要寫哪些位)和動態分組寫入(用於提高寫吞吐量),帶寫校驗的多脈衝寫入操作以及優化寫電壓以實現高耐久性。該演算法如圖6所示。
圖6.智能寫操作演算法,顯示動態組寫和帶寫驗證的多脈衝寫。
MRAM數據可靠性
在基於自旋的STT-MRAM的許多應用中,磁場干擾是一個潛在的問題。該解決方案是在封裝上沉積0.3mm厚的磁屏蔽層,如圖6所示,實驗表明在移動設備的商用無線充電器的磁場強度為3500Oe的情況下,暴露100小時的誤碼率可以從>1E6ppm降低到〜1ppm。另外在650Oe的磁場下,在125°C下的數據保存時間超過10年。
圖7.對3500Oe磁場的靈敏度降低了1E6倍。